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第19号 >

Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11178/3733

Title: ラピッドクエンチ法によるNbN薄膜の作成
Other Titles: Preparation of NbN films by rapid quenching technique
Authors: 阿久根, 忠博
山中, 哲夫
矢野, 貴之
坂本, 進洋
渋谷, 喜夫
Akune, Tadahiro
Yamanaka, Tetsuo
Yano, Takayuki
Sakamoto, Nobuyoshi
Shibuya, Yoshio
アクネ, タダヒロ
ヤマナカ, テツオ
ヤノ, タカユキ
サカモト, ノブヨシ
シブヤ, ヨシオ
九州産業大学工学部電気工学科/九州産業大学工学研究科電気工学専攻/九州産業大学工学研究科電気工学専攻/九州産業大学工学部電気工学科/九州産業大学工学部電気工学科
Issue Date: 1982
Publisher: 九州産業大学工学部
URI: http://hdl.handle.net/11178/3733
Appears in Collections:第19号

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